Popis: A model walks the runway for Designer Honee during Style Fashion Week fall winter 2017 at the Theater of the Madison Square Garden in New York on February 9th 2017
Typ snímku: image
Informace o právech a použití snímku:
Pouze po redakční (editorial) použití. Použití této fotografie v reklamě nebo ke komerčním účelům je zakázáno.
Pro informaci:
Všechny soubory, které si stáhnete, mohou být použity pro
redakční účely, Standardní licence umožňuje řadu různých
použití, včetně redakčního použití. Soubory označené jako
“Pouze po redakční (editorial) použití” lze použít pouze
pro nekomerční účely.
Např. mohou být použity k ilustraci v novinovém článku,
na blogu nebo webové stránce, čistě k popisným účelům,
v nekomerčních souvislostech. Tyto fotografie je možné zakoupit pro tisková média s maximálním nákladem 250.000 kopií na publikaci.
Soubory pouze pro redakční účely nelze použít v reklamě
nebo k tvorbě propagačních materiálů, nebo takovým způsobem,
který zahrnuje platbu nebo příjem poplatku.
podobné fotografie podle klíčových slov